De lezing wordt voorafgegaan door de BCK Jaarvergadering.
Samenvatting
Geïntegreerde silicium-gebaseerde schakelingen (IC’s) liggen al tientallen jaren aan de basis van onze digitale maatschappij: gisteren onze schootcomputers, USB-sticks en smartphones met navigatie, etc., vandaag massieve dataopslag en zelflerende machines en morgen kunstmatige intelligentie, enz.
De rol van de chemie in het vervaardigingsproces van chips wordt uit de doeken gedaan vanuit een historisch perspectief, startend in de jaren 1950 met slechts een handvol elementen uit het periodiek systeem en eenvoudige fysisch-chemische processen (zelfs nog enkele nat-chemische) en reactoren. Het strakke, monotone ritme in de verkleining in het chipontwerp (de “Wet van Moore”) ging decennia lang goed tot ca. 15 jaar geleden. Thans is verdere verkleining van de details beneden ~14 nanometer vrijwel alleen uitvoerbaar en mogelijk gemaakt door toepassing van de nieuwste chemische depositie en droogets-processen. Deze uitgekiende processen maken het mogelijk chips te fabriceren met structurele details van slechts enkele atoomlagen, die ook nog steeds dieper onder het chip-oppervlak liggen, en vaak vele malen herhaald worden in 3D-gelaagde structuren.
Curriculum vitae prof.dr. Fred Roozenboom
Professor at Eindhoven University of Technology,
Senior Technical Advisor at TNO – Holst Centre, Eindhoven
Fred Roozeboom received his MSc (1976, chemistry, cum laude) from Utrecht University and his PhD (chemical engineering, 1980) at Twente University in The Netherlands, both in catalysis. He continued his career in catalysis with ExxonMobil in Baton Rouge, USA (1980-1982) and Rotterdam (1983).
Next, he joined Philips-Research (since 2006: NXP) in Eindhoven, The Netherlands, to work on MOCVD of III-V semiconductor lasers (1983-1988), IC metallization (1988-1990), soft-magnetic materials for magnetic recording, and “switchable mirror” hydride multilayers (1990-1996). From 1997-2009 he led a team on 3D passives and heterogeneous Si-integration for wireless communication applications, power management and digital signal processing. For this work he received the Bronze Award for ‘NXP Invention of the Year 2007’ and became NXP Research Fellow. In 2007 he became part-time professor at TU Eindhoven. In 2009 he left NXP and joined a team at TNO Eindhoven specializing in Atomic Layer Processing. In 2014 he became Fellow of the Electrochemical Society.
Fred is co-/author of 200+ publications (h-index: 34), 5 book chapters, 35 granted US patents, and co-/editor of 41 conference proceedings on semiconductor processing. He has been or is active in organizing committees of several conferences (Materials Research Society, Electrochemical Society) and is a member of the SEMI Europe Semiconductor Technology Programs Committee.
Topics of interest: Ultrathin-film technology, plasma processing, spatial ALD, reactive ion etching, 3D passive and heterogeneous integration, rapid thermal processing, microsystem technology, Li-ion micro-batteries, sensors, displays, EUV optical lifetime.
Introducé(e)s zijn van harte welkom.
Graag vooraf bericht als u verwacht te komen.
Stuur daartoe een mail naar tcj.gribnau@planet.nl.
Meer informatie over deze en andere lezingen is te vinden op www.beceka.info.
